내년 가동 계획...'반도체 비전 2030' 추진 박차

삼성전자 평택캠퍼스. [사진=삼성전자]
삼성전자 평택캠퍼스. [사진=삼성전자]

【뉴스퀘스트=최석영 기자】 삼성전자가 평택에 새로운 극자외선(EUV·Extreme Ultra Violet) 파운드리(반도체 위탁 생산) 라인을 구축하는 약 10조원 규모의 투자 계획을 발표했다.

이번 투자는 지난해 4월 이재용 부회장이 2030년까지 133조원을 투자해 시스템 반도체 1위 자리를 차지하겠다고 밝힌 '반도체 비전 2030'의 일환이다.

삼성전자는 경기도 평택캠퍼스에 2021년 가동을 목표로 EUV 기반의 최첨단 제품 수요에 대응하는 파운드리 생산 시설을 구축한다고 20일 밝혔다.

삼성전자는 올해 2월 화성사업장에 초미세 극자외선(EUV) 전용 'V1 라인'을 본격 가동한 데 이어 이번에 평택캠퍼스에도 처음으로 EUV 파운드리 라인을 신설하며 목표 달성을 위한 투자를 본격화했다.

삼성은 이번 투자 규모를 공개하지 않았으나 증권업계에서는 약 10조원에 달하는 대규모 투자가 이뤄질 것으로 보고 있다.

이재용 부회장은 "어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안된다"며 시스템 반도체 1위를 향한 지속적인 투자 의지를 밝혔다.

삼성이 화성에 이어 평택에 도입하는 EUV 노광 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원으로 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 기존 공정으로는 할 수 없는 초미세 회로 구현이 가능하다. 고성능·저전력 반도체를 만드는 데 필수적인 기술이다.

현재 글로벌 파운드리(반도체 위탁생산) 시장은 대만의 TSMC가 압도적인 1위 자리를 지키고 있고, 삼성이 2위로 추격하고 있다.

삼성전자는 지난해 '반도체 비전 2030' 발표 이후 파운드리 생산시설 투자를 지속적으로 확대하고 있다.

지난해 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 확대했다.

앞으로 평택 라인까지 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 가파르게 증가할 전망이다. 평택라인의 첫 가동은 2021년으로 예정돼 있다.

삼성전자는 현존하는 최고 난도의 초미세공정인 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤 이후 평택 파운드리 라인에서도 5나노 제품 생산에 나설 계획이다.

삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 "앞으로 5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며 "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 말했다.

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