네덜란드 3박5일 출장 마치고 귀국
세계적 반도체 장비업체 ASML와 글로벌 공급망 협력 구축 '우군 확보'

이재용 회장이 3박5일 간의 네덜란드 출장을 마치고 15일 귀국했다. [삼성전자 제공=뉴스퀘스트]
이재용 회장이 3박5일 간의 네덜란드 출장을 마치고 15일 귀국했다. [삼성전자 제공=뉴스퀘스트]

【뉴스퀘스트=권일구 기자 】 삼성전자가 반도체 분야 초격차(超隔差)에 한발 더 다가섰다.

윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문을 동행했던 이재용 삼성전자 회장은 15일 서울김포공항비즈니스항공센터(SGBAC) 입국장에서 기자들의 출장 성과와 관련한 질문에 "반도체가 거의 90%였다"고 강조했다.

삼성전자와 네덜란드 반도체 장비 업체 ASML은 지난 12일(현지시간) ASML본사에서 함께 1조원을 투자해 차세대 극자외선(EUV) 기반으로 초미세 공정을 공동 개발하는 ‘차세대 반도체 제조기술 R&D센터’를 한국에 설립하는 내용의 업무협약(MOU)를 맺었다.

ASML이 반도체 제조기업과 공동으로 해외에 반도체 제조 공정을 개발하기 위한 R&D센터를 설립하는 것은 이번이 처음으로 알려졌다.

ASML은 최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업이다.

7나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) 이하의 초미세 공정을 구현하기 위해서는 EUV 장비가 필수지만, ASML은 연간 약 50대만 생산해 공급이 수요를 따라가지 못하고 있는 상황이다.

특히, ASML이 조만간 출하할 차세대 EUV장비인 '하이 NA EUV(High NA)' 장비는 1나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) 공정을 구현하는데 핵심 장비다.

이날 이 회장과 함께 귀국한 경계현 삼성전자 반도체(DS)부문 대표이사(사장)은 ”EUV가 가장 중요한 툴로 전체적인 반도체 공급망 입장에서 굉장히 든든한 우군을 확보했다“며 ”이번 협약은 경기도 동탄에 공동 연구소를 짓고 거기서 하이 NA EUV를 들여와서 ASML 엔지니어와 삼성의 엔지니어들이 같이 기술 개발하는 것이 주목적“이라고 강조했다.

이어 ”삼성이 '하이 뉴메리컬어퍼처(High NA) EUV'에 대한 기술적인 우선권을 갖게 될 것 같고, 장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 덧붙였다.

윤석열 대통령도 이번 네덜란드 국빈 방문 당시 뤼터 총리와 정상회담 후 가진 공동기자회견에서 "반도체 동맹은 초격차를 유지하고 최첨단의 기술을 함께 구축해 나가기 위해서 중요한 과학 기술적인 문제들을 함께 논의하고, 해결하고 정보를 긴밀하게 공유한다는 뜻"이라며 "한국과 네덜란드의 반도체 동맹의 목표는 세계 최고의 초격차를 만드는 것"이라고 강조했다.

이어 "앞으로 첨단 과학기술, 반도체를 바탕으로 안보와 경제, 문화 모든 부분에서 양국 관계의 지평이 더 넓어지고, 깊어질 것"이라고 전망했다.

한편, 삼성전자는 지난 14일 전사와 모바일경험(MX)사업부가 회의를 가진 데 이어 이날은 영상디스플레이(VD)와 생활가전(DA)사업부, 오는 19일에는 반도체(DS) 부문이 각각 회의글로벌 전략회의를 진행할 예정이다.

글로벌 전략회의는 매년 6월과 12월 두 차례 국내외 임원들이 모여 사업 부문별·지역별 현안을 공유하고 내년 사업목표와 영업전략 등을 나눈다.

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