【뉴스퀘스트=황재희 기자】삼성전자 평택 공장이 올해 반도체 초미세공정 장비인 EUV(극자외선) 노광기를 들이고 2㎚(나노미터, 10억분의 1m) 미세공정 고도화에 속도를 낼 전망이다.

2나노 공정 핵심 협력사인  네덜란드 장비업체 ASML 전 최고경영자(CEO)와 삼성전자 경영진이 회동하는 등 협력을 강화하고 있기 때문이다.

20일 업계에 따르면 피터 베닝크 ASML 전 CEO(최고경영자)가 네덜란드 경제부 장관 등 정부 관계자들과 함께 삼성전자 평택 공장을 전날 방문했다. 

베닝크 전 CEO는 2013년부터 ASML을 이끌어오며 삼성전자와 긴밀한 협력관계를 구축해온 인물이다. 지난해 7월에도 베닝크 CEO는 프랑스 파리에서 이재용 삼성전자 회장과 만나 협력 방안을 논의한 바 있다. 

이날 삼성전자 평택공장을 방문한 베닝크 등 네덜란드 일행들은 삼성 반도체 경영진들과 만나 첨단 노광 장비인 '하이 뉴메리컬어퍼처(High-NA) EUV '의  원활한 수급 방안을 비롯해 반도체 연구개발(R&D)과 투자 논의를 진행했을 것으로 업계는 관측하고 있다.  

노광기는 웨이퍼 위에 미세회로를 새기는 카메라와 같은 장비다. 3나노 이하의 초미세 공정에선 초정밀 EUV 노광기를 대체할 기술이 아직 없다. 

특히 삼성 파운드리(반도체 위탁생산)는 올해 GAA(게이트올어라운드) 공정을 적용한 2나노 기반 제품을 생산하는 게 목표라고 밝힌 상황. 이에 따라 업계에서는 삼성전자가 연내 ASML의 최신 EUV 장비를 들여올 것으로 전망하고 있다.

업계 한 관계자는 "삼성전자가 2나노 공정에서 성공하기 위해서는 핵심 협력사인 ASML과의 협력이 중요하다"라며 "ASML은 삼성전자 외에 대만 TSMC에도 노광기를 공급하고 있는 만큼 삼성이 먼저 최신 장비를 선점해 기술 개발에서 앞서나가는 것이 필요한 상황 "이라고 말했다.

한편 삼성전자는 ASML과의 협력 확대를 위해 화성 캠퍼스에 1조5000억원 규모의 ASML 본사 사옥과 R&D(연구개발) 센터를 설립하고 있다.

당초 2023년 착공해 지난해 말까지 완공한다는 목표였으나 공사가 지연되며 올해 8월까지로 연기됐다. 

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